Acontece na próxima semana o Curso Intermediário de Patente e Registro de Desenho Industrial
Programa fornece instrumentos efetivos para a proteção da atividade inventiva e para o planejamento tecnológico.
A ANPEI promoverá, entre os dias 16 e 17 de junho, em São Paulo, o “Curso Intermediário de Patente e Registro de Desenho Industrial”, direcionada a técnicos, engenheiros, pesquisadores e professores. Profissionais do Inpi – Instituto Nacional da Propriedade Industrial e diretores da ANPEI ministrarão as aulas. As inscrições deverão ser feitas no site da ANPEI, até o dia 13/06/2005. Serão oferecidas 30 vagas.
Veja o programa do curso
Anote na Agenda
Curso Intermediário de Patente e Registro de Desenho Industrial
Data: 16 e 17 de junho de 2005
Horário: 8h45 às 17h
Local: Hotel Park Suítes ITC Nova Faria Lima
Rua Fidêncio Ramos, 420 – Vila Olímpia – São Paulo – SP
Fone: (11) 3089-8000 – Fax: (11) 3089-8001